Ellipsometri, optisk metode til måling av meget tynne sjikt på materialoverflater. Polarisert lys blir sendt mot en overflate slik at polarisasjonen av utgangslyset (refleksjonen) er avhengig av egenskaper på materialets overflate. Målemetoden kan vise belegg ned til ett atomlag. Ellipsometri har utstrakt anvendelse innen teknologi og forskning, og blir bl.a. brukt til å måle belegg på halvledere. Viktige bidrag til utviklingen av teknikken ble gitt av NTH-professorene Leif Tronstad (1903–45) og Arthur Baker Winterbottom (1904–78), samt professor Ola Hunderi ved samme sted (fra 1996 NTNU).

Foreslå endringer i tekst

Foreslå bilder til artikkelen

Kommentarer

Har du spørsmål til artikkelen? Skriv her, så får du svar fra fagansvarlig eller redaktør.

Du må være logget inn for å kommentere.