CVD

Artikkelstart

CVD er en metode innen materialvitenskap for å legge tynne sjikt (filmer) på en overflate. Typisk sjikttykkelse er fra noen nanometer til noen mikrometer.

Faktaboks

Etymologi

forkortelse for engelsk Chemical Vapour Deposition

Også kjent som

kjemisk dampavsetting, kjemisk dampdeponering

CVD-teknikken baseres på at kontrollerte mengder av flyktige forbindelser bringes i gassfase og reaksjonsproduktet avsettes på et substrat. Det finnes en rekke varianter av teknikken, inkludert laserbelysning og plasmainitiering.

CVD er et viktig verktøy innen materialfremstilling, spesielt av tynnfilmer til produksjonen av mikroprosessorer. Overflater kan blant annet belegges med tynne diamantfilmer, noe som gir enorm hardhet, eller av mønstre av ledende og isolerende materialer for å lage kretser. CVD benyttes for eksempel i fremstilling av sensorer, elektroder og elektroluminiscente sjikt til displayer.

Les mer i Store norske leksikon

Kommentarer

Kommentaren din publiseres her. Fagansvarlig eller redaktør svarer når de kan.

Du må være logget inn for å kommentere.

eller registrer deg