CVD er en metode innen materialvitenskap for å legge tynne sjikt (filmer) på en overflate. Typisk sjikttykkelse er fra noen nanometer til noen mikrometer.
CVD-teknikken baseres på at kontrollerte mengder av flyktige forbindelser bringes i gassfase og reaksjonsproduktet avsettes på et substrat. Det finnes en rekke varianter av teknikken, inkludert laserbelysning og plasmainitiering.
CVD er et viktig verktøy innen materialfremstilling, spesielt av tynnfilmer til produksjonen av mikroprosessorer. Overflater kan blant annet belegges med tynne diamantfilmer, noe som gir enorm hardhet, eller av mønstre av ledende og isolerende materialer for å lage kretser. CVD benyttes for eksempel i fremstilling av sensorer, elektroder og elektroluminiscente sjikt til displayer.
Kommentarer
Kommentarer til artikkelen blir synlig for alle. Ikke skriv inn sensitive opplysninger, for eksempel helseopplysninger. Fagansvarlig eller redaktør svarer når de kan. Det kan ta tid før du får svar.
Du må være logget inn for å kommentere.